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高质量TEM样品制备
测试分析与服役评价平台
高质量TEM样品制备
来源:
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作者:
佚名
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发布时间:
1430天前
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FIB制备TEM样品：0.5keV低电压和0.1pA极低束流抛光保证了样品表面非晶损伤层厚度控制在<1nm像。
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